|
ISO 17560:2002
(в архиве можно скачать текст в форматах doc,rar,zip,html)
| | Название (рус.): | Анализ поверхностей химический. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод глубокого профилирования бора в кремнии | | Название (англ.): | Surface chemical analysis. Secondary-ion mass spectrometry. Method for depth profiling of boron in silicon | | Дата регистрации: | 02.08.02 | | Дата введения: | 15.07.02 | | Код ОКС(МКС): | 71.040.40 | | Нормативные ссылки: | ISO 14237:2000 | |
Текст ISO 17560:2002 лежит тут Анализ поверхностей химический. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод глубокого профилирования бора в кремнии (50 Кб)
| |