Химический анализ поверхности. Определение загрязнения поверхности элементами на силиконовых пластинках методом флюоресцентной рентгеновской общеотражающей спектроскопии
Название (англ.):
Surface chemical analysis. Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy